非光刻方案，佳能开始出售 5nm 芯片生产设备

发布时间：2023-10-14 13:33:10 所属栏目：数码来源：

导读：佳能公司近日发布新闻稿，开始销售芯片生产设备 FPA-1200NZ2C，表示采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造 5 nm 芯片。

佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者 ASML 不同，并非光刻，而更类似于印刷，不根

佳能公司近日发布新闻稿，开始销售芯片生产设备 FPA-1200NZ2C，表示采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造 5 nm 芯片。

佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者 ASML 不同，并非光刻，而更类似于印刷，不根据运用图象投射的原理解把芯片上的微型构造移植到矽晶片里。

这款机器能够加工的最小面积为14平方毫米的硅晶片，以此为基础得以制造出可达到5纳米技术的集成电路。

据佳能的表述，他们将持续优化该系统以应用于更高精度的半导体制造工艺中。未来的发展潜力在于可支撑2nm级别的芯片的批量生产。

纳米印刷通常被认为是光学光刻的低成本替代品，SK 海力士和铠侠等存储芯片制造商过去曾尝试过使用。铠侠此前进行过测试，不过潜在客户提出投诉，认为产品缺陷率较高，最后选择放弃。

（编辑：汽车网）

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