7nm高端DUV光刻机还能出口
发布时间:2023-12-16 14:22:11 所属栏目:数码 来源:DaWei
导读: ASML方面已经表示,将在年底前向中国客户交付部分先进芯片制造装备。
ASML已经获得荷兰官方的允许,在今年年底前向中国客户出口其部分先进工具。按照ASML的说法,在2023年的剩余时间里,
ASML已经获得荷兰官方的允许,在今年年底前向中国客户出口其部分先进工具。按照ASML的说法,在2023年的剩余时间里,
ASML方面已经表示,将在年底前向中国客户交付部分先进芯片制造装备。 ASML已经获得荷兰官方的允许,在今年年底前向中国客户出口其部分先进工具。按照ASML的说法,在2023年的剩余时间里,ASML将能继续出货其NXT:2000i和更先进的DUV型号的产品。 据ASML官网提供的信息,该公司目前在售的主流浸没式DUV光刻机产品共有三款,分别是:TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。这三款光刻机的最大特点是采用了双工件台技术,可以同时进行多个芯片的测试,从而实现更高的精度。 ASML官网上关于这一台TWINSCAN NXT:1980Di的介绍,其中在分辨率方面,写到是大于等于38nm(可以支持到7nm左右),而这是指一次曝光的分辨率,事实上光刻机是可以进行多次曝光的。),而在精度方面,则是大于10纳米,也就是说,在这个范围内,我们可以看到很多细节。 (编辑:汽车网) 【声明】本站内容均来自网络,其相关言论仅代表作者个人观点,不代表本站立场。若无意侵犯到您的权利,请及时与联系站长删除相关内容! |
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